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    什么是LPCVD?

    日期:2024-05-29 03:09
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    摘要:
    LPCVD--Low Pressure Chemical Vapor Deposition 低壓力化學氣相沉積法用于氧化硅、氮化物、多晶硅沉積,過程在管爐中執行,要求也相當高的溫度。
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    滬公網安備 31011702004252號

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