• 所在位置: 首頁> 技術文章> 真空應用>
    文章詳情

    什么是PVD?

    日期:2024-05-29 04:14
    瀏覽次數:2591
    摘要:

      PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以是某些有性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能! PVD基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)

     

      PVD出現于二十世紀七十年代末,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等。初在高速鋼刀具的成功應用引起了各國制造業的高度重視,人們在高性能、高性涂層設備的同時,也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比,PVD工藝處理溫度低,在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態壓應力,更適于對硬質合金復雜刀具的涂層;PVD工藝對環境無不利影響,符合綠色制造的發展方向。當前PVD涂層已普遍應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。
     
      PVD不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度,涂層成分也由代的TiN發展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層。

     

    滬公網安備 31011702004252號

    欧美日韩国产有码在线观看_亚洲av无码乱码在线观看_人妻精品久久久久中文字幕_久久精品99国产精品日本